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im体育:中国微电子专用工艺设备研制取得重大突破

2022-06-09 03:18:34

  中新社重庆十二月十二日电(记者刘小青邹辉)总投资一亿余元人民币的十四种共十八台套六英寸零点五微米集成电路研发关键专用设备今天在此间通过设计定型鉴定和项目验收。权威专家称,这标志着中国在微电子工艺设备研制方面取得了重大突破,改变了微电子领域“国外设备一统天下”的局面,中国模拟集成电路科研生产能力和关键设备制造能力又上了一个新台阶。

  中国电子科技集团公司专家武祥介绍说,十四种集成电路研发关键设备的研制被称作“九七一一工程”,由中国电子科技集团四十五所、四十八所,国营七00厂、七0八厂、七0九厂,西安电子科技大学等单位负责研制,中国电子科技集团公司二十四所负责应用研究。经过六年攻关,研制成功并于今天正式落户重庆投入使用。

  据了解,目前中国集成电路市场约占世界市场的百分之二十,且呈现加速增长的趋势,由于此前集成电路研发的关键设备中国不能自主研发生产,大都依赖进口,而西方发达国家一直以来将此类关键设备作为“杀手锏”对中国实施进口限制。

  专家称,“九七一一工程”专用设备研制成功,在一定程度上扭转了中国长期以来存在的半导体工艺设备制造水平低,主要依靠进口的被动局面,将中国关键半导体工艺设备的制造水平与国际的差距缩短了五至八年,达到九十年代中期水平,走出了一条自主研制成套半导体关键工艺设备的成功之路。

  据介绍,“九七一一工程”科技人员在六年时间里,攻克了一百五十二项关键技术,取得专利四十九项,发表论文六十五篇,掌握和拥有多项知识产权,初步形成了中国关键半导体专用设备自主开发和生产的技术平台。

  专家介绍说,“九七一一工程”研制的十八台集成电路研发关键设备包括分步投影光刻机、大束流离子注入机、电子束暴光机、干法刻蚀机、磁控溅设系统、冲洗甩干、石英管清洗机等,这些关键设备的市场前景十分广阔。